2012/2/15-17
nano tech 2012に出展します。皆さまのご来場お待ちしております。 |
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2010/8/31
CABL-9000CシリーズユーザーであるPOLITECNICA DE MADRID大学が、APSジャーナルで "Stochastic nature of the domain wall depinning in permalloy magnetic nanowires"という論文を発表しています。
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2010/7/21
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の平成22年度「イノベーション推進事業」に係る助成事業において、弊社のタイトル「細胞内分析X線レンズ作製用高解像電子線描画装置の開発」が採択されました。 |
| CABL- 9520Cご使用の東北大学 大見研究室による『Complementary Metal-Oxide-Silicon Field-Effect Transistors Featuring Automatically flat Gte Insulator Film/Silicon Interface』に関する論文が、JJAPに掲載されました。 |
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| アメリカの論文サイトJournal of Vacuum Science and Technology にCEBRとCSELの論文が掲載されました！ |
| 「次世代MEMS開発・生産用電子線一括露光装置の開発」が平成20年度東京都重点戦略プロジェクト支援事業に選定さ れ、プレスリリースされました！ |
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2011/12/7-9
セミコンジャパン2011に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2011/9/19-23
mne 2011 (ベルリン）に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2011/9/28-30
InterOpto 2010(パシフィコ横浜）に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2011/7/13-15
第22回マイクロマシン/MEMS展（東京ビッグサイト）に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2011/7/11-12
東京工業大学にて開催されるワークショップNGL2011にて「ナノシリコン電子源による大面積電子線一括露光」という題名で講演を行いました。 |
2011/5/31-6/2
アメリカ・ラスベガスで開催されたEIPBN 2011 に出展しました。「Surface electron emission lithography with electron source of high emission efficiency」というタイトルでポスタープレゼンテーションを行いした。 |
2011/2/16-18
nanotech 2010に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2010/12/1-3
セミコンジャパンに出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2010/11/9-11
第23回マイクロプロセス・ナノテクノロジー展に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2010/9/29-10/1
InterOpt 2010に出展しました。ご来場ありがとうございました。 |
2010/7/26-30
IVNC 2010(23rd International Vacuum Nanoelectronics Conference)が7月26-30日にカリフォルニア州パロアルトで開催され、弊社の「面電子一括露光装置」について
口頭発表を行いました。 |
2010/2/21-25
サンノゼ(US)で開催されるSPIE Advanced Lithography 2010の学会で、弊社の「面電子一括露光装置(CSEL)の開発」に関する論文が採択され、口頭発表を24日に行いました。 |
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