クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です。

代表挨拶・経営理念

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代表挨拶

クレステックは、創業以来「電子線(EB)の無限の可能性を形にする」というコンセプトで、「世界最高峰の超高分解能電子線描画装置(EB リソグラフィ)」を目標にして、開発・製造・販売を行い、全世界の先端産業分野のお客様に、価値と満足を提供し続けてまいりました。
おかげ様で世界14ヶ国・地域の皆様に、R&D や生産用としてEB リソグラフィをご利用いただき、時代の最先端を行く数多くの成果が報告されています。特に光通信用デバイス生産市場において、多波長半導体レーザを製作するために、弊社EB リソグラフィによる0.001nmの位置決め分解能を有するマスクレス直接描画法を適用し、従来比2.5倍以上の高歩留を実現しております。
今後とも「お客様の満足を組織的に創り続ける経営」の実現が必要であることを認識し、その実現を決意して実行して参りますので、引き続きご指導ご鞭撻のほど、何卒よろしくお願い申し上げます。

株式会社クレステック 代表取締役
大井 英之

大井 英之

経営理念

お客様第一主義・個人尊重・イノベーション・チャレンジ精神およびチーム力発揮により、低コストでかつ最高の商品とサービスを提供し、省エネ・安心安全社会、豊かな生活と文化の創造に貢献するとともに、国際社会で信頼される「エクセレント・カンパニー」であることを志向し続けます。

(1) お客様の持つ真のニーズに応え、世の中に役立つ商品とサービスにより、お客様に価値と満足を提供し続け、社会の発展と、人々の豊かさと幸せに貢献していきます。

(2) そのために、開発・技術・製造・営業などあらゆる分野で、イノベーションをはかり、創造的で先進性の高い商品とサービスの創出に努力していきます。

(3) クレステックは、創造性にあふれた社員一人ひとりの人間性と個性を尊重し、会社の経営に各人の持ち味と特長が活かされ、溌剌とした個が輝く企業文化の実現を目指します。