クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描写技術を専門としたナノテク企業です。
革新的な最先端テクノロジーでお客様の満足を追求すること-それが私たちクレステックの使命です。
Japanese

製品情報

電子線描画装置
 
 受託描画加工
 
 お問い合わせ
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 
 

information

2008/07/30-8/1
マイクロマシン展に出展します。ご来場お待ちしております。
2008/05/27-29
EIPBNに出展しました。ご来場ありがとうございました
!
2008年2月 
米国カリフォルニア大バークレー校にCABL-9510Cが納品されました!
2008/03/27-30
応用物理学会に出展・発表しました。ご来場ありがとうございました(発表内容はこちら)。
2007年11月 
英国ケンブリッジ大学にCABL-9510Cが納品されました!
2008年2月 
日経産業新聞に、当社開発中の面電子一括露光装置の記事が掲載されました。
2008年2月 
日経産業新聞に、”磁気ディスク原版作成装置”として EBマスタリング装置 CEBRシリーズの記事が掲載されました。
電子材料2月号の表紙になりました!
2008/02/13-15
国際ナノテクノロジー展
 2008(東京ビッグサイト)に出展しました。ご来場ありがとうございました。
EIPBNプレスリリース2007
2007/09/06
応用物理学会で発表しました。
製造中核人材育成ポータルサイトあこがれの人材像にて弊社社長の大井が紹介されています。