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| 1995年 2月10日 |
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東京都国分寺市に資本金1,500万円で株式会社クレステック設立。 |
| 1999年11月 |
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東京都八王子市大和田町に本社工場移転。 |
| 2003年11月 |
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台湾及び韓国の両国立研究機関へ高分解能電子線描画装置を納入。 |
| 2004年 7月 |
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「第4世代DVD原盤作製用EBマスタリング装置」の開発が、経済産業省
地域新生コンソーシアム研究開発事業に採択される。 |
| 2005年 4月 |
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中国の国立大学へ高分解能電子線描画装置を納入。 |
| 2005年 7月 |
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イタリアの国立大学へ高分解能電子線描画装置を納入。 |
| 2006年3月 |
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国内大手電機メーカー研究所へ高分解能電子線描画装置を納入。 |
| 2006年 9月 |
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スペインの国立大学へ高分解能電子線描画装置を納入。 |
| 2006年 11月 |
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中国の国立大学へ高分解能電子線描画装置を納入。 |
2007年11月
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英国ケンブリッジ大学に高分解能電子線描画装置を納入。 |
2008年2月
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米国カリフォルニア大学バークレー校に高分解能電子線描画装置を納入。 |
2010年3月
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資本金を45,000,000円に |
