受託描画加工 - 電子線描画装置のクレステック

●受託描画加工の代表例

■3D Pattern Writing Method Blazed Grating

ブレーズ回折格子
ドーズ量を変化させて描画しています

■3D Concentric Circular Pattern

■2D Photonic Crystals

スポットスキャン方式でレジスト上にドットパターンを描画します。金属クラスターを利用して〜20nmのＳｉピラーを形成

データご提供： JRCAT 金山敏彦先生. 多田哲也先生

■Hexagonal Grating

　ドットサイズは60nmφです

■Computer Generated Hologram

Magnification ： × 170 (右)
Magnification ： × 85 (左)

ラスタースキャンで描いたホログラムパターン
ピクセルサイズは1.25μｍ

※上記以外のアプリケーションにも対応可能です。詳しくはマーケティンググループまでお問い合わせ下さい。