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X-Y-Z型 電子線描画装置 CABL-9000Cシリーズ

電子線描画装置
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■特徴

・従来のCABLシリーズに一層の簡易操作性と機能性を付加したマルチユーザー対応モデル

・WindowsベースのオリジナルCADGDSⅡおよびDXFに対応(オプション)

・ポイントビーム(XYZ型)

・単結晶ZrO/Wを採用したTFE電子銃

・加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現

・高いつなぎ精度、重ね合わせ精度

・抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性

・フィールドサイズ変調ユニット 特許登録済(0.0012nmの最小アドレスサイズを実現)

・チャープト周期回折格子の製作も可能

・回転対称図形描画法 特許登録済 

・装置恒温システム

■主な仕様
電子源/加速電圧 TFE(ZrO/W)/5〜50kV
電子ビーム径/最小線幅 2.0nm/ 10nm保証、8nm可能
スキャン方式 ベクタスキャン(x,y),ベクタスキャン(r,θ) (標準)
ラスタスキャン,スポットスキャン (オプション)
新描画方式(オプション) フィールドサイズ変調描画,回転対称図形描画,
RAM DACデジタルスポット描画,3次元図形描画
フィールドサイズ 30μm□,60μm□,120μm□,300μm□,600μm□(標準)
1200μm□,2400μm□(オプション)
画素数 20,000×20,000dot,60,000×60,000dot@ベクタスキャン(標準)
240,000×240,000dot@ベクタスキャン(オプション)
4,000×4,000dot,10,000×10,000dot@ラスタスキャン(オプション)
最小アドレスサイズ 10nm@600μm□フィールド,2nm@120μm□フィールド(標準)
0.0012nm@500μm□フィールド(オプション)
対応基板サイズ 4,6,8インチΦ(他のサイズ、形状もフレキシブルに対応)
接続精度 50nm(3σ)@500μm□,20nm(2σ)@50μm□
重ね合わせ精度 50nm(3σ)@500μm□,20nm(2σ)@50μm□
CADソフトウェア オリジナルCAD(標準),GDSⅡコンバージョン(オプション),
DXFコンバージョン(オプション)
OS Windows2000、XP