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面電子一括露光装置

 
現在、半導体用露光装置として液侵光ステッパーが45nm用として市場に出始めておりますが、45nm以降の細線を量産露光するための技術が確定しておりません。

そうした中、その限界を破る量産露光用ソリューションとして脚光を浴びているのが、”面電子一括露光装置”です。ポイントビームとは違い、面一括露光が出来るため高いスループットが期待されています。且つ、＜20nmオーダーの細線描画も可能と見込まれており、現在急ピッチで開発を進めており、その動向に関して世界中の先端技術者から注目されています。
 
 
 
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