電子線描画装置のクレステック

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・2013/5/28-31
アメリカテネシー州ナッシュビルで行われるEIPBN 2013に出展します。皆さまのご来場をお待ちしております。

・2013/9-16-19
ロンドンで行われるMNE 2013に出展します。皆さまのご来場をお待ちしております。

・2013/5/28-31
アメリカテネシー州ナッシュビルで行われるEIPBN 2013に出展します。皆さまのご来場をお待ちしております。

・2013/3
CABL-8000をご使用の三重大学元垣内先生の論文がOptics Photonics Journalに掲載されました。2ページ左下あたりにCrestec CABL-8000の記載があります。是非ダウンロードしてご覧ください。
http://www.scirp.org/journal/PaperInformation.aspx?PaperID=28942

・2010/8/31
CABL- 9000CシリーズユーザーであるPOLITECNICA DE MADRID大学が、APSジャーナルで "Stochastic nature of the domain wall depinning in permalloy magnetic nanowires"という論文を発表しています。

・2010/7/21
独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の平成22年度「イノベーション推進事業」に係る助成事業において、弊社のタイトル「細胞内分析X線レンズ作製用高解像電子線描画装置の開発」が採択されました。

CABL- 9520Cご使用の東北大学　大見研究室による『Complementary Metal-Oxide-Silicon Field-Effect Transistors Featuring Automatically flat Gte Insulator Film/Silicon　Interface』に関する論文が、JJAPに掲載されました。

アメリカの論文サイトJournal of Vacuum Science and Technology にCEBR(Potential of a rotary stage electron beam mastering system for fabricating patterned magnetic media)とCSEL (Sub-50 nm resolusion surface electron emission lithography using nano-Si ballistic electron emitter) の論文が掲載されました！(ＰＤＦダウンロードには購読者登録が必要です）

「次世代MEMS開発・生産用電子線一括露光装置の開発」が平成20年度東京都重点戦略プロジェクト支援事業に選定され、プレスリリースされました！

・2013/3/27-30
神奈川工科大にて行われた応用物理学会（春季）に参加しました。ご来場ありがとうございました。

・2013/1/30-2/1
東京国際フォーラムで開催されたnano tech 2013 に参加いたしました。ご来場ありがとうございました。

・2012/12/5-7
幕張メッセで行われたセミコン・ジャパン2012に出展しました。ご来場ありがとうございました。

・2012/10/30-11/2
神戸メリケンパークで行われたMNC 2012に出展しました。ご来場ありがとうございました。

・2012/9/25-27
パシフィコ横浜で開催されるInterOpto 2012に参加しました。ご来場ありがとうございました。

・2012/9/16-20
フランス・トゥールーズで行われるMNE 2012に出展しました。ご来場ありがとうございました。

・2012/5/29-6/1
ハワイで行われたEIPBNに出展しました。ご来場ありがとうございました。

・2012/5/8-10
アメリカ、サンノゼで行われたCLEO2012に出展しました。ご来場ありがとうございました。

・2011/7/11-12
東京工業大学にて開催されるワークショップNGL2011にて「ナノシリコン電子源による大面積電子線一括露光」という題名で講演を行いました。

・2011/5/31-6/2
アメリカ・ラスベガスで開催されたEIPBN 2011 に出展しました。「Surface electron emission lithography with electron source of high emission efficiency」というタイトルでポスタープレゼンテーションを行いした。

・2010/7/26-30
IVNC 2010(23rd International Vacuum Nanoelectronics Conference)が7月26-30日にカリフォルニア州パロアルトで開催され、弊社の「面電子一括露光装置」について
口頭発表を行いました。

・2010/2/21-25
サンノゼ(US)で開催されるSPIE Advanced Lithography 2010の学会で、弊社の「面電子一括露光装置(CSEL)の開発」に関する論文が採択され、口頭発表を24日に行いました。

製品情報

NEW 新製品 CABL-UH シリーズ

世界最高レベルの加速電圧130keV が導く
新次元の超高分解能描画能力!

CABL-9000C シリーズ

世界中に多数の納入実績!


X-Y-Z型電子線描画装置アプリケーション例	X-θ型ＥＢマスタリング装置面電子一括露光装置