クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です。
革新的な最先端テクノロジーでお客様の満足を追求すること-それが私たちクレステックの使命です。

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・User's Voice

NEW!  ・2016/11/8-11
京都で行われるMNC2016
に出展します。皆さまのご来場おまちしております。

 

・2016/5/31                                 弊社製電子線描画装置をご使用の富山県立大学の竹井先生の論文が 応用物理学会の速報誌APEXにアップされました!!

 

・2015/7
弊社製電子線描画装置をご使用の富山県立大学 竹井先生の論文AIP Scitationにアップされました!
・2015/6
弊社製CABL-8000をご使用の三重大学 元垣内先生の論文がSpringerにアップされました!
・2013/3
弊社製CABL-8000をご使用の三重大学 元垣内先生の論文がOptics Photonics Journalに掲載されました。2ページ左下あたりにCrestec CABL-8000の記載があります。是非ダウンロードしてご覧ください。http://www.scirp.org/journal/PaperInformation.aspx?PaperID=28942
・2010/8/31
CABL- 9000CシリーズユーザーであるPOLITECNICA DE MADRID大学が、APSジャーナルで "Stochastic nature of the domain wall depinning in permalloy magnetic nanowires"という論文を発表しています。
・2010/7/21
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の平成22年度「イノベーション推進事業」に係る助成事業において、弊社のタイトル「細胞内分析X線レンズ作製用高解像電子線描画装置の開発」が採択されました。
CABL- 9520Cご使用の東北大学 大見研究室による『Complementary Metal-Oxide-Silicon Field-Effect Transistors Featuring Automatically flat Gte Insulator Film/Silicon Interface』に関する論文が、JJAPに掲載されました。
アメリカの論文サイトJournal of Vacuum Science and TechnologyにCEBR(Potential of a rotary stage electron beam mastering system for fabricating patterned magnetic media)とCSEL(Sub-50 nm resolusion surface electron emission lithography using nano-Si ballistic electron emitter)の論文が掲載されました!(PDFダウンロードには購読者登録が必要です)
「次世代MEMS開発・生産用電子線一括露光装置の開発」が平成20年度東京都重点戦略プロジェクト支援事業に選定され、プレスリリースされました!
・2014/3/17-20
青山学院大学 相模原キャンパスで行われた応用物理学会(春季)に参加しました。来場をありがとうございました。
・2011/7/11-12
東京工業大学にて開催されるワークショップNGL2011にて「ナノシリコン電子源による大面積電子線一括露光」という題名で講演を行いました。
・2010/7/26-3023rd International Vacuum Nanoelectronics Conferenceが7月26-30日にカリフォルニア州パロアルトで開催され、弊社の「面電子一括露光装置」について口頭発表を行いました。
・2010/2/21-25
サンノゼ(US)で開催されるSPIE Advanced Lithography 2010の学会で、弊社の「面電子一括露光装置(CSEL)の開発」に関する論文が採択され、口頭発表を24日に行いました。
 
 
 

 

製品情報


130kv5wakunashi.JPG

NEW 新製品 CABL-UH シリーズ

世界最高レベルの加速電130keV採用により
新次元の超高分解能描画を実現!

 

CABL9000Cyohakuwakunashi.JPG
CABL-9000C シリーズ
世界中に多数の納入実績!
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