・User's VoiceVIDEO
・2012/5/8-10 アメリカ、サンノゼで行われるCLEO2012 に出展します。皆さまのご来場をお待ちしております。
・ 2012/5/29-6/1 ハワイで行われるEIPBN に出展します。皆さまのご来場お待ちしております。
・ 2010/8/31 CABL-9000CシリーズユーザーであるPOLITECNICA DE MADRID大学が、APSジャーナルで "Stochastic nature of the domain wall depinning in permalloy magnetic nanowires" という論文を発表しています。
・ 2010/7/21 独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構（NEDO）の平成22年度「イノベーション推進事業」に係る助成事業において、弊社のタイトル「細胞内分析X線レンズ作製用高解像電子線描画装置の開発」が採択されました。
CABL- 9520Cご使用の東北大学 大見研究室による『Complementary Metal-Oxide-Silicon Field-Effect Transistors Featuring Automatically flat Gte Insulator Film/Silicon Interface』に関する論文が、JJAPに掲載されました。
ア メリカの論文サイトJournal of Vacuum Science and Technology にCEBR CSEL
「次世代MEMS開発・生産用電子線一括露光装置の開発」が平成20年度東京都重点戦略プロジェクト支援事業に選定さ れ、プレスリリースされました！
・ 2012/2/15-17 nano tech 2012 に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2011/12/7-9 セミコンジャパン2011 に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2 011/9/19-23 mne 2011 (ベルリン） に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2011/9/28-30 InterOpto 2010(パシフィコ横浜） に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2011/7/13-15 第22回マイクロマシン/MEMS展 （東京ビッグサイト）に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2011/7/11-12 東京工業大学 にて開催されるワークショップNGL2011にて「ナノシリコン電子源による大面積電子線一括露光」という題名で講演を行いました。
・ 2011/5/31-6/2 アメリカ・ラスベガスで開催されたEIPBN 2011 に出展しました。「Surface electron emission lithography with electron source of high emission efficiency」というタイトルでポスタープレゼンテーションを行いした。
・ 2010/12/1-3 セミコンジャパン に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2010/11/9-11 第23回マイクロプロセス・ナノテクノロジー展 に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2010/9/29-10/1 InterOpt 2010 に出展しました。ご来場ありがとうございました。
・ 2010/7/26-30 IVNC 2010(23rd International Vacuum Nanoelectronics Conference)が7月26-30日にカリフォルニア州パロアルトで開催され、弊社の「面電子一括露光装置」について
・ 2010/2/21-25
