クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描写技術を専門としたナノテク企業です。
革新的な最先端テクノロジーでお客様の満足を追求すること-それが私たちクレステックの使命です。
     

information

2010/6/1
求人情報更新しました。
2010/9/29-10/1
InterOpt 2010に出展します。皆様のご来場をお待ちしております。
2010/7/28-30
マイクロマシン/MEMS展に出展します。皆様のご来場をお待ちしています。

2010/7/21
独立行政法人 新エネルギー・産業技術総合開発機構(NEDO)の平成22年度「イノベーション推進事業」に係る助成事業において、弊社のタイトル「細胞内分析X線レンズ作製用高解像電子線描画装置の開発」が採択されました。
2009/12/10
日経産業新聞のハイテクmonthlyで弊社のナノシリコンに関する記事が掲載されました。
CABL-8000TFご使用の三重大学オプトエレクトロニクス研究室・元垣内先生による論文「Fabrication of Binary Diffractive Lens for Controlling the Luminous Intensity Distribution of LED Light」がOPTICAL REVIEW Vol. 16に掲載されました。
2009年11月
11日付けの日経産業新聞にクレステックの面電子源に関する記事が掲載されました。
EIPBN2009(米国)において、CABL-9000Cシリーズご使用のイタリア マグナグラシア大学 BIONEMグループによる "3D self-similar chain nanolens fabrication and their use in single
molecule detection"の論文発表が
ありました。
CABL-9520Cご使用の東北大学 大見研究室による『Complementary Metal-Oxide-Silicon Field-Effect Transistors Featuring Automatically flat Gte Insulator Film/Silicon Interface』に関する論文が、JJAPに掲載されました。
2009/7/15
応用物理学会の英文論文誌JJAPに、弊社の「X-θ型EBマスタリング装置」に関する論文が2009年6月22日付でオンライン掲載されました。(JJAP 48(2009)06FB02)パターンドメディア(DTM、BPM)用に新しく開発した描画方法とそれらの機能について報告しています。
アメリカの論文サイトJournal of Vacuum Science and Technology にCEBRCSELの論文が掲載されました!
「次世代MEMS開発・生産用電子線一括露光装置の開発」が平成20年度東京都重点戦略プロジェクト支援事業に選定さ れ、プレスリリースされました!

2010/7/28-30
マイクロマシン/MEMS展に出展しました。ご来場ありがとうございました。
2010/7/26-30
IVNC 2010(23rd International Vacuum Nanoelectronics Conference)が7月26-30日にカリフォルニア州パロアルトで開催され、弊社の「面電子一括露光装置」について
口頭発表を行いました。
2010/3/17-20
第57回応用物理学関係連合講演会JSAP EXPO Spring 2010に出展しました。ご来場ありがと うございました
2010/2/21-25
サンノゼ(US)で開催されるSPIE Advanced Lithography 2010の学会で、弊社の「面電子一括露光装置(CSEL)の開発」に関する論文が採択され、口頭発表を24日に行いました。
2010/2/17-19
nano tech 2010に 出展しました。ご来場ありがとうございました。

2009/12/2-4
セミコン・ジャパン2009に出展しました。ご来場ありがとうございました。
2009/9/8-11
2009年秋季 第70回応用物理学会 学術講演会(富山大学)に出展いたしました。ご来場ありがとうございました。
2009/7/29-31
第20回マイクロマシン/MEMS展
に出展いたしました。ご来場ありがとうございました。
2009/7/9-7/10
応用物理学会NGL技術研究会主催によるNGLワークショップ2009が日本科学未来館で開催されました。7月9日のポスターセッションで弊社の「面電子一括露光装置」について発表しました。多くの皆様のご参加ありがとうございました。
NGL2009開催案内
日本科学未来館ホームページ
2009/2/22-27
SPIE Advanced Lithography Conference
(アメリカ, サンノゼ)で、面電子一括露光機(CSEL)の開発に関する論文発表(2/26)を行いました。
2008年2月 
米国カリフォルニア大学バークレー校にCABL-9510Cが納品されました!
2007年11月 
英国ケンブリッジ大学にCABL-9510Cが納品されました!
 
EIPBNプレスリリース2007
製造中核人材育成ポータルサイトの「あこがれの人材像にて弊社社長の大井が紹介されています。

 

 

 

 

製品情報

電子線描画装置

 

 

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