クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です。

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電子線描画装置販売

CABL-UH(130kV)series

CABL-UH

高加速電圧の採用により、レジスト内の電子線の前方散乱が少なく、より微細な加工が可能な電子線描画装置です。

ビーム径:1.6nmΦ以下
最小線幅:7nm以下
加速電圧:130kV, 110kV, 90kV
ステージ:8インチ対応

CABL-9000C (50kV) series

CABL-9000C

通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に最適なモデル。微細加工性とスループットのバランスがとれた、50kV加速電圧を採用した主力製品です。

ビーム径:2nmΦ以下
最小線幅:10nm以下
加速電圧:50kV, 30kV
ステージ:4インチ, 6インチ, 8インチ対応

受託加工サービス

受託加工サービス

クレステックでは長年のノウハウを活かし、研究開発用の単品加工から、生産用の複数枚継続加工まで、お客様のご要望にお応えすべく、受託加工有償サービスを提供いたします。 ご希望の描画パターンレイアウト図を用意していただき、お気軽にご相談ください。近年は通信用半導体レーザー(DFB-LD)向けグレーティングパターンの依頼が多くなっております。

共同開発

共同開発

お客様の最先端新規デバイスの開発をEB リソグラフィによる超微細加工でサポートし、共同で新型装置の開発、新機能の開発をいたします。 お客様のニーズを第一に考えてお応えいたします。