クレステックは徹底したマーケットイン志向の電子線描画技術を専門としたナノテク企業です。

共同開発

TOP > 事業一覧 > 共同開発

クレステックでは長年培ってきた、電子線描画装置システム開発に必要な知識、経験を生かし、お客様のご要望に合せた共同開発を行ってきました。

共同開発例

面電子一括露光装置の共同開発

面電子一括露光装置の共同開発

東京農工大学の越田教授が発見したナノ結晶シリコンの弾道電子現象を面電子源へ応用し、面電子源表面に形成したマスクパターンを転写する、電子ビーム転写装置を開発しました。複雑化した液浸光ステッパーと比べてシンプルな構造で、ウエハ全面に100nm~1μmのDot&Spaceパターンを0.5秒で形成します。
この開発の内容は、2010~2011年のSPIE(国際光工学会)、2008の応用物理学会、2013年のMNC(マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議)等において発表され、 特許取得しています(特許第4122043号)。
2008年春応用物理学会発表内容はこちら(PDF)2013年MNC発表内容はこちら(PDF)

電子線マスタリング装置の共同開発

電子線マスタリング装置の共同開発

磁気を用いた記録メディアでは、垂直記録方式の実用化の後、熱アシスト記録方式等の記録密度を高める技術開発が行われています。さらなる大容量を目指す次世代技術として「ビットパターンメディア」が研究され、円形メディアに10nmΦのビットパターンを作成する電子線描画装置を共同開発しました。摩擦駆動Xステージと回転ステージを採用し、ブランキングレス描画技術により高速かつ高精度に微細パターンをディスク上に描画します。
2009年日本磁気学会研究会発表内容はこちら(PDF)

お気軽にお問い合わせください

TEL. 042-660-1195 042-660-1195

受付時間平日9:00~18:00